「统计」の検索結果

扫描目录识别所有类型发票（交通、住宿、餐饮等），提取关键信息并生成分类统计报告

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针对包含Bitmap类型字段的快照表，利用位图差集函数计算每日新增和流失人数，忽略ID字段。

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根据用户提供的优惠活动详细介绍文本，按照预定义的JSON Schema提取活动基本信息（如时间、银行、卡类型、支付方式、优惠力度、次数限制等），并应用特定的格式化规则和逻辑计算（如状态判断、次数统计）。

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编写Python2脚本，以块数据方式高效读取大型auth.log文件，统计最近5分钟内“connecting closed”出现次数超过10次的IP，并提示登录爆破行为。

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使用MATLAB计算二维矩阵等高线围成的面积，过滤无效值，并将相同level的等高线面积合并统计。

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统计与机器学习异常值检测工具。读取结构化表格数据，使用 IQR、Z-score、IsolationForest 或分组标准差一致性方法识别异常值，输出带异常标记、删除异常行或裁剪异常值后的结果文件。 当用户提到异常值检测、离群值识别、IQR、Z-score、IsolationForest、按实验组/分类组检查数值一致性等需求时使用此skill。 即使用户没有明确说出“statistical_outlier_detector”，只要任务涉及结构化数值字段异常识别或分组均值标准差一致性检查，就应该使用此skill。 不负责字段固定阈值上下限校验、枚举值校验、时间序列缺失/频率校验或格式转换。

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时间窗口采样算子。读取JSONL时间序列记录，按指定时间窗口分组后在每个窗口内均匀抽取样本。 当用户提到按天抽样、按小时抽样、周期性抽样、时间窗口采样等需求时使用此skill。 即使用户没有明确说出"时间窗口采样"，只要任务涉及按时间粒度分组后抽样，就应该使用此skill。 不负责时间字段清洗、时间聚合统计或异常检测。

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数值格式清洗工具。读取 JSONL 结构化数据，按字段规则统一单位、数值格式、范围和空值表达，输出规整后的 JSONL 和统计文件。 当用户提到数值格式化、单位统一、千分位、科学计数法、空值填充、数值规整等需求时使用此skill。 即使用户没有明确说出"数值格式清洗"，只要任务涉及按字段规则整理数值表达，就应该使用此skill。 不负责文本去重、标点清洗、字段校验或非数值内容整理。

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批量文件清单采集器。扫描一个或多个本地文件/目录，或从任务列表加载路径， 按支持的扩展名生成文件元信息清单，供后续文本、表格、文档、图像等采集流程继续处理。 当用户需要批量盘点待采集文件、生成本地文件 manifest、统计输入文件类型或为后续采集算子准备文件清单时使用此 skill。

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数值标准化工具。读取JSONL数据，按指定字段执行Z-score或Min-Max标准化，并保留原始值与变更标记。 当用户提到数值标准化、归一化、字段规整、范围映射等需求时使用此skill。 即使用户没有明确说出"data_normalizer"，只要任务涉及对某个数值字段做标准化处理，就应该使用此skill。 不负责四舍五入/小数位统一（见DC3_RoundOff）、文本清洗、类别编码或多字段联合统计分析。

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按字段拆分数据工具。根据指定字段的值将结构化表格拆分为多个文件，每个唯一值对应一个输出文件。 当用户提到数据拆分、按字段分组导出、分类导出、数据分片、按某列值分割文件等需求时使用此skill。 即使用户没有明确说出"拆分"，只要任务涉及将结构化表格按某字段值分成多个文件，就应该使用此skill。 不负责字段聚合统计、行级过滤或跨表关联合并。

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火山引擎国内短信服务（Volcengine SMS）。支持资质、签名和模板的申请与查询，单条、群发和定时发送，以及发送记录、回执、统计查询与失败排查。

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自动定位并获取权威公开数据（优先API/官方批量下载），输出可复现抓取与清洗方案。Invoke when用户需要权威数据、官方统计、API下载或数据源爬取。

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公众号头条增长榜工具。基于红狐数据，按周统计公众号头条阅读增长（本周 vs 上周），排序固定为头条增长率降序，支持 23 个作者类别筛选，最多翻 5 页（每页 20 条，逐页输出），发现正在快速涨量的公众号账号。当用户提到"公众号头条增长榜"、"头条增长榜"、"公众号黑马榜"、"黑马榜"、"公众号涨榜"、"公众号飙升榜"、"阅读增长榜"、"涨粉快的公众号"、"公众号涨量排名"时使用。

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只读统计 Claude/Codex 的 Skill 使用证据并检查 agent 配置健康。仅用于明确的健康检查、配置诊断、使用排行或低使用候选请求；会识别 enabled 插件并单列批量审计读取。不要用于规范源、触发、全局/项目/profile/冷存储、投影或退役治理，改用 skill-ecosystem-doctor。忽略引用日志和相邻任务。

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飞书项目（Meego/Meegle）操作工具。支持查询和管理工作项、节点流转、视图查询、个人待办、排期统计等功能。 Use when user needs to work with Feishu/Lark Meego project management — including querying work items, creating/updating work items, completing workflow nodes, checking views, listing todos, analyzing schedules/workloads, or searching with MQL. 关键词：飞书项目、meego、meegle、工作项、需求、任务、缺陷、排期、视图、待办、节点。

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Use when user asks to create/edit Online graph charts, data visualization, or says "创建图表", "生成图表", "新建图表", "做一个图表", "online图表", "数据图表", "柱状图", "折线图", "饼图", "统计图", "可视化", "chart", "graph", "create chart", "generate chart", "bar chart", "line chart", "pie chart". Also triggers when user describes chart requirements like "做一个销售柱状图" or mentions data visualization like "用图表展示男女比例".

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用于在思源任务笔记管理插件中记录番茄钟专注记录和提取任务习惯统计摘要的 MCP 工具。

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半导体芯片制造工艺 (Semiconductor Process Engineering / 半导体芯片制造工艺 — 以「物理化学极限 + 良率经济双重约束」为特征的集成电路前道/后道制造工艺认知操作系统：从「器件架构与微缩路线（planar→FinFET→GAA nanosheet→CFET、等效微缩 DTCO/STCO、背面供电 BSPDN）→ 工艺整合（FEOL/MOL/BEOL 模块协同、PDK、流片 tape-out）→ 单元工艺（光刻 litho（DUV 浸没式 193i / EUV 13.5nm / 多重曝光 SADP-SAQP / OPC / mask）、刻蚀 etch（RIE/ICP/原子层刻蚀 ALE）、薄膜沉积 depo（CVD/PECVD/LPCVD/ALD/PVD/外延 epi/电镀 Cu）、掺杂 doping（离子注入 ion implant / 退火 RTA-laser anneal）、CMP 化学机械抛光、清洗 cleaning）→ 量测检测 metrology（CD-SEM / OCD / overlay / 椭偏 ellipsometry / 缺陷检测 defect inspection / e-beam）→ 良率工程 yield（缺陷密度 / SPC 统计过程控制 / FDC / APC / DOE 实验设计 / 良率爬坡 yield ramp）→ 先进封装 advanced packaging（2.5D/3D、CoWoS、HBM、混合键合 hybrid bonding、chiplet、TSV）」的完整器件-工艺-良率-量产决策链。覆盖 (a) 第一性张力 — **物理/化学/材料的硬约束（量子隧穿、短沟道效应、RC 延迟、热预算、缺陷物理、ppb 级污染控制）⇄ 良率/成本/产能的经济约束（每片晶圆成本、良率是主经济指标、D0 缺陷密度、wafer-per-hour、折旧）**；**持续微缩/摩尔定律（dimensional + equivalent scaling、节点路线图 N5/N3/N2/A16/A14、high-NA EUV）⇄ 物理极限/微缩放缓（原子尺度、漏电、功耗墙、成本墙、'摩尔定律已死'之争）**；**协同优化/整合（DTCO 设计-工艺协同、STCO 系统-工艺协同、模块间 trade-off）⇄ 单模块极致优化（单一 unit process 工艺窗口）**；**工艺配方的 tacit 手艺（process recipe 调试、工艺窗口、缺陷根因分析、量产 ramp 的经验）⇄ 可建模/可仿真/数据驱动（TCAD 仿真、ML 良率分析、APC/FDC、数字孪生）**；**性能-功耗-面积-成本 PPAC 四角权衡 ⇄ 良率/可制造性 DFM 优先**；**自主可控/国产替代（卡脖子、EUV 出口管制、设备/材料/EDA 国产化、SMIC/长江存储/长鑫/中微/北方华创/上海微电子）⇄ 全球高度分工（ASML 光刻垄断、AMAT/Lam/TEL/KLA 设备、TSMC/Samsung/Intel 代工、全球供应链）**。(b) 核心工作流 / pipeline（最标准、最易蒸高质量 + CLI 化）— 新节点/新工艺导入：器件目标与 PPAC 定义 → 工艺整合方案与 PDK → 单元工艺开发与配方调试（DOE 找工艺窗口）→ 量测建立与 SPC → 良率爬坡（缺陷分类 + 根因分析 + 工艺改善）→ 量产移交与持续改善。具体单元工艺 SOP：光刻（曝光条件 / OPC / overlay 控制 / 多重曝光分解）、刻蚀（选择比 / profile / loading effect / ALE）、沉积（台阶覆盖 / 应力 / 均匀性）、CMP（去除速率 / 碟形 dishing / 侵蚀 erosion）、量测与缺陷分析、良率分析与 FA 失效分析。(c) 工具栈 — 设备（光刻 ASML/上海微电子 SMEE；刻蚀+沉积 AMAT/Lam/TEL/中微 AMEC/北方华创 Naura；离子注入 AMAT/Axcelis；CMP AMAT/荏原 Ebara；量测检测 KLA/AMAT/中科飞测/上海精测）、EDA/TCAD/仿真（Synopsys Sentaurus/Silvaco/Coventor SEMulator3D、OPC Calibre/Synopsys）、良率与制造软件（SPC、MES、FDC/APC、缺陷分析 yield management、PWS）、材料（光刻胶 photoresist、CMP 浆料 slurry、特气、靶材、掩膜 mask blank）。(d) 知识正典 — 半导体工艺 canon 横跨器件物理与制造工程：核心教材（Plummer/Deal/Griffin《Silicon VLSI Technology》、Sze《Physics of Semiconductor Devices》《VLSI Technology》、Wolf & Tauber《Silicon Processing for the VLSI Era》、Campbell《Fabrication Engineering at the Micro and Nanoscale》、May & Spanos《Fundamentals of Semiconductor Manufacturing and Process Control》、Quirk & Serda《Semiconductor Manufacturing Technology》、肖国勇/施敏中文教材）、路线图（ITRS/IRDS、IEEE 国际器件与系统路线图）、顶会论文（IEDM、Symposium on VLSI Technology、IRPS 可靠性、SPIE Advanced Lithography、ISSCC、DAC）、行业分析（SemiAnalysis、TechInsights、IC Knowledge）。(e) figures/流派 — 学术与器件奠基（Gordon Moore 摩尔、Robert Dennard 登纳德微缩、胡正明 Chenming Hu FinFET/UTB-SOI 发明人 UC Berkeley、刘明 Tsu-Jae King Liu Berkeley、Krishna Saraswat Stanford、Mark Bohr Intel 工艺架构）、产业领袖与工艺大师（张忠谋 Morris Chang TSMC、林本坚 Burn-Jeng Lin 浸没式光刻、Martin van den Brink ASML、米玉杰/梁孟松 SMIC/三星工艺、Mark Liu/魏哲家 TSMC）、行业分析师（Dylan Patel SemiAnalysis、Scotten Jones IC Knowledge、TechInsights 拆解、Handel Jones）、科普与拆解（Asianometry、The Chip Letter、半导体行业观察）。流派分歧：等效微缩派 vs 摩尔定律已死派、前道微缩 vs 先进封装 chiplet 异构集成、dimensional scaling vs DTCO 协同优化、IDM vs 纯代工 foundry 模式、自主可控/国产替代路线 vs 全球分工。(f) 行业话术/黑话 — 制程节点 node / 流片 tape-out / 工艺窗口 process window / 良率 yield / 缺陷密度 D0 / 关键尺寸 CD / 套刻 overlay / 掩膜 reticle-mask / 光刻胶 PR / 浸没式 immersion / EUV/DUV / 多重曝光 multi-patterning SADP-SAQP / OPC / 刻蚀选择比 selectivity / profile / loading effect / 原子层刻蚀 ALE / 台阶覆盖 step coverage / 外延 epi / 离子注入 implant / 退火 anneal / RTA / CMP / dishing-erosion / FEOL-MOL-BEOL / FinFET / GAA / 纳米片 nanosheet / CFET / 背面供电 BSPDN / high-NA / PPAC / DTCO-STCO / DFM / SPC / FDC-APC / DOE / WAT-PCM / 良率爬坡 yield ramp / FA 失效分析 / particle 颗粒 / 洁净室 cleanroom-级别 / 12寸-8寸 wafer / chiplet / CoWoS / HBM / 混合键合 hybrid bonding / TSV / PDK / 等效微缩. (g) 争议/批判 — 「摩尔定律是否已死 vs 等效微缩继续」、「节点命名营销化（N3/N2 ≠ 物理 3nm/2nm，gate pitch/metal pitch 才是真尺度）」、「前道微缩 vs 先进封装异构集成谁是未来」、「自主可控/国产替代的现实（EUV 卡脖子、设备/材料/EDA 国产化进度、出口管制 entity list、良率与成熟度差距）」、「良率/成本/性能三角权衡」、「人才稀缺与工艺 know-how 的 tacit 性」、「中国大基金/产能扩张是否过剩」、「制裁与技术封锁」。(h) 大量隐性工艺手艺（process recipe 调试与工艺窗口寻找、缺陷根因分析与 FA、量产良率爬坡的经验判

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将用户的数据分析需求转化为结构化的分析计划并与用户确认。用户提出 BI 业务分析、数据探索、统计建模等需要规划的分析任务时使用。简单数据查询、公式明确的定量计算等流程简单、无需规划的任务不使用。

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取数 / 查数据 / 拉数据 / 跑 SQL。把自然语言取数需求转为 SQL，经数据湖仓执行后返回查询结果供下游分析。**任何需要业务数据的任务在工作区缺少对应文件时都必须先调用此技能**——覆盖 BI 业务分析、留存 / 转化 / 同期群分析、数据探索 EDA、统计建模、定量计算、元数据查询、数据查询。命中任一即触发：(1) 直接索要指标或记录，如「DAU 多少」「上月销售额」「3 月留存率」「这个客户的订单」；(2) 取数口语，如「查 / 查一下 / 取一下 / 拉一下 / 抓数据 / 找数据 / 搜数据 / 跑 SQL / 写 SQL / 导出 / 缺数据 / 没数据 / 数据不够」；(3) 涉及数据来源，如「从语义层 / 数据湖仓 / 仓库 / 数据库取」；(4) 问元数据 / 口径，如「字段含义 / 表结构 / 这两张表怎么关联 / 可用数据源 / 指标怎么算」；(5) 下游任务在工作区找不到所需数据。

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每日 SEO/GEO 巡逻（2026-06-24 标准）。覆盖：SERP 关键词排名追踪（DataForSEO / volume 300-1000 / KD 5-35）、 Google 索引数统计、llms.txt 可达性、GA4 tag 部署检测及 AI 来源 channel 配置、 PH canonical 合并修复、社媒关键词雪崩救援（title 含 best/free/top/guide+年份、内链注入 ≤2-3/段、 主动 cite 竞品外链）。当用户说"跑 SEO 日报"、"检查排名"、"某关键词掉了"、"修 canonical"、"加内链"时调用。

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AI 口播配音：用免费的 edge-tts（微软 Edge 在线语音）为带货短视频逐句生成配音，自动去首尾静音、统计每句时长、缓存复用，可选音色/语速/音调，并给出口播稿改写规则。Use when the user needs a voice-over, 配音, 口播, 旁白, TTS, text-to-speech, AI 主播声音, or wants to turn a script into audio for 抖音 / TikTok / 视频号 videos.

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将 SRT 字幕文件转换为结构化 JSON 数据。 触发场景： (1) 需要解析 SRT 字幕文件 (2) 需要将字幕转为 JSON/结构化格式 (3) 需要提取字幕时间码和文本 (4) 视频字幕数据处理和分析 (5) 生成字幕纯文本或统计信息

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