「advanced」の検索結果

Routes AutoTrain Advanced installation, CLI, config, training, UI/API, backend, and utility workflows.

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Production guidance for Kling AI Open Platform Advanced Lip-Sync. Use for identifying/selecting one face in an existing video, assigning URL/Base64 or Kling TTS audio, cropping and inserting audio in milliseconds, mixing original sound, creating and monitoring tasks, downloading expiring results, consent/privacy review, sync QA, and repair. Do not use for still-image avatar generation or ordinary Kling video generation.

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Anime.js Animation Skill workflow skill. Use this skill when the user needs Advanced JavaScript animation library skill for creating complex, high-performance web animations and the operator should preserve the upstream workflow, copied support files, and provenance before merging or handing off.

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ai-engineer workflow skill. Use this skill when the user needs Build production-ready LLM applications, advanced RAG systems, and intelligent agents. Implements vector search, multimodal AI, agent orchestration, and enterprise AI integrations and the operator should preserve the upstream workflow, copied support files, and provenance before merging or handing off.

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ai-engineer workflow skill. Use this skill when the user needs Build production-ready LLM applications, advanced RAG systems, and intelligent agents. Implements vector search, multimodal AI, agent orchestration, and enterprise AI integrations and the operator should preserve the upstream workflow, copied support files, and provenance before merging or handing off.

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半导体芯片制造工艺 (Semiconductor Process Engineering / 半导体芯片制造工艺 — 以「物理化学极限 + 良率经济双重约束」为特征的集成电路前道/后道制造工艺认知操作系统：从「器件架构与微缩路线（planar→FinFET→GAA nanosheet→CFET、等效微缩 DTCO/STCO、背面供电 BSPDN）→ 工艺整合（FEOL/MOL/BEOL 模块协同、PDK、流片 tape-out）→ 单元工艺（光刻 litho（DUV 浸没式 193i / EUV 13.5nm / 多重曝光 SADP-SAQP / OPC / mask）、刻蚀 etch（RIE/ICP/原子层刻蚀 ALE）、薄膜沉积 depo（CVD/PECVD/LPCVD/ALD/PVD/外延 epi/电镀 Cu）、掺杂 doping（离子注入 ion implant / 退火 RTA-laser anneal）、CMP 化学机械抛光、清洗 cleaning）→ 量测检测 metrology（CD-SEM / OCD / overlay / 椭偏 ellipsometry / 缺陷检测 defect inspection / e-beam）→ 良率工程 yield（缺陷密度 / SPC 统计过程控制 / FDC / APC / DOE 实验设计 / 良率爬坡 yield ramp）→ 先进封装 advanced packaging（2.5D/3D、CoWoS、HBM、混合键合 hybrid bonding、chiplet、TSV）」的完整器件-工艺-良率-量产决策链。覆盖 (a) 第一性张力 — **物理/化学/材料的硬约束（量子隧穿、短沟道效应、RC 延迟、热预算、缺陷物理、ppb 级污染控制）⇄ 良率/成本/产能的经济约束（每片晶圆成本、良率是主经济指标、D0 缺陷密度、wafer-per-hour、折旧）**；**持续微缩/摩尔定律（dimensional + equivalent scaling、节点路线图 N5/N3/N2/A16/A14、high-NA EUV）⇄ 物理极限/微缩放缓（原子尺度、漏电、功耗墙、成本墙、'摩尔定律已死'之争）**；**协同优化/整合（DTCO 设计-工艺协同、STCO 系统-工艺协同、模块间 trade-off）⇄ 单模块极致优化（单一 unit process 工艺窗口）**；**工艺配方的 tacit 手艺（process recipe 调试、工艺窗口、缺陷根因分析、量产 ramp 的经验）⇄ 可建模/可仿真/数据驱动（TCAD 仿真、ML 良率分析、APC/FDC、数字孪生）**；**性能-功耗-面积-成本 PPAC 四角权衡 ⇄ 良率/可制造性 DFM 优先**；**自主可控/国产替代（卡脖子、EUV 出口管制、设备/材料/EDA 国产化、SMIC/长江存储/长鑫/中微/北方华创/上海微电子）⇄ 全球高度分工（ASML 光刻垄断、AMAT/Lam/TEL/KLA 设备、TSMC/Samsung/Intel 代工、全球供应链）**。(b) 核心工作流 / pipeline（最标准、最易蒸高质量 + CLI 化）— 新节点/新工艺导入：器件目标与 PPAC 定义 → 工艺整合方案与 PDK → 单元工艺开发与配方调试（DOE 找工艺窗口）→ 量测建立与 SPC → 良率爬坡（缺陷分类 + 根因分析 + 工艺改善）→ 量产移交与持续改善。具体单元工艺 SOP：光刻（曝光条件 / OPC / overlay 控制 / 多重曝光分解）、刻蚀（选择比 / profile / loading effect / ALE）、沉积（台阶覆盖 / 应力 / 均匀性）、CMP（去除速率 / 碟形 dishing / 侵蚀 erosion）、量测与缺陷分析、良率分析与 FA 失效分析。(c) 工具栈 — 设备（光刻 ASML/上海微电子 SMEE；刻蚀+沉积 AMAT/Lam/TEL/中微 AMEC/北方华创 Naura；离子注入 AMAT/Axcelis；CMP AMAT/荏原 Ebara；量测检测 KLA/AMAT/中科飞测/上海精测）、EDA/TCAD/仿真（Synopsys Sentaurus/Silvaco/Coventor SEMulator3D、OPC Calibre/Synopsys）、良率与制造软件（SPC、MES、FDC/APC、缺陷分析 yield management、PWS）、材料（光刻胶 photoresist、CMP 浆料 slurry、特气、靶材、掩膜 mask blank）。(d) 知识正典 — 半导体工艺 canon 横跨器件物理与制造工程：核心教材（Plummer/Deal/Griffin《Silicon VLSI Technology》、Sze《Physics of Semiconductor Devices》《VLSI Technology》、Wolf & Tauber《Silicon Processing for the VLSI Era》、Campbell《Fabrication Engineering at the Micro and Nanoscale》、May & Spanos《Fundamentals of Semiconductor Manufacturing and Process Control》、Quirk & Serda《Semiconductor Manufacturing Technology》、肖国勇/施敏中文教材）、路线图（ITRS/IRDS、IEEE 国际器件与系统路线图）、顶会论文（IEDM、Symposium on VLSI Technology、IRPS 可靠性、SPIE Advanced Lithography、ISSCC、DAC）、行业分析（SemiAnalysis、TechInsights、IC Knowledge）。(e) figures/流派 — 学术与器件奠基（Gordon Moore 摩尔、Robert Dennard 登纳德微缩、胡正明 Chenming Hu FinFET/UTB-SOI 发明人 UC Berkeley、刘明 Tsu-Jae King Liu Berkeley、Krishna Saraswat Stanford、Mark Bohr Intel 工艺架构）、产业领袖与工艺大师（张忠谋 Morris Chang TSMC、林本坚 Burn-Jeng Lin 浸没式光刻、Martin van den Brink ASML、米玉杰/梁孟松 SMIC/三星工艺、Mark Liu/魏哲家 TSMC）、行业分析师（Dylan Patel SemiAnalysis、Scotten Jones IC Knowledge、TechInsights 拆解、Handel Jones）、科普与拆解（Asianometry、The Chip Letter、半导体行业观察）。流派分歧：等效微缩派 vs 摩尔定律已死派、前道微缩 vs 先进封装 chiplet 异构集成、dimensional scaling vs DTCO 协同优化、IDM vs 纯代工 foundry 模式、自主可控/国产替代路线 vs 全球分工。(f) 行业话术/黑话 — 制程节点 node / 流片 tape-out / 工艺窗口 process window / 良率 yield / 缺陷密度 D0 / 关键尺寸 CD / 套刻 overlay / 掩膜 reticle-mask / 光刻胶 PR / 浸没式 immersion / EUV/DUV / 多重曝光 multi-patterning SADP-SAQP / OPC / 刻蚀选择比 selectivity / profile / loading effect / 原子层刻蚀 ALE / 台阶覆盖 step coverage / 外延 epi / 离子注入 implant / 退火 anneal / RTA / CMP / dishing-erosion / FEOL-MOL-BEOL / FinFET / GAA / 纳米片 nanosheet / CFET / 背面供电 BSPDN / high-NA / PPAC / DTCO-STCO / DFM / SPC / FDC-APC / DOE / WAT-PCM / 良率爬坡 yield ramp / FA 失效分析 / particle 颗粒 / 洁净室 cleanroom-级别 / 12寸-8寸 wafer / chiplet / CoWoS / HBM / 混合键合 hybrid bonding / TSV / PDK / 等效微缩. (g) 争议/批判 — 「摩尔定律是否已死 vs 等效微缩继续」、「节点命名营销化（N3/N2 ≠ 物理 3nm/2nm，gate pitch/metal pitch 才是真尺度）」、「前道微缩 vs 先进封装异构集成谁是未来」、「自主可控/国产替代的现实（EUV 卡脖子、设备/材料/EDA 国产化进度、出口管制 entity list、良率与成熟度差距）」、「良率/成本/性能三角权衡」、「人才稀缺与工艺 know-how 的 tacit 性」、「中国大基金/产能扩张是否过剩」、「制裁与技术封锁」。(h) 大量隐性工艺手艺（process recipe 调试与工艺窗口寻找、缺陷根因分析与 FA、量产良率爬坡的经验判

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Advanced swarm orchestration patterns for research, development, testing, and complex distributed workflows

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Advanced Hive Mind collective intelligence system for queen-led multi-agent coordination with consensus mechanisms and persistent memory

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Advanced swarm orchestration patterns for research, development, testing, and complex distributed workflows

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Comprehensive skill for building, migrating, and maintaining Astro v7 projects. Covers best practices from the official AGENTS.md, the v6→v7 migration path, validation of breaking/deprecated patterns, AI-enhanced dev server usage (background mode, JSON logging), advanced routing with src/fetch.ts, route caching, Sätteri Markdown, and the Rust compiler. Use when the user mentions 'Astro', '.astro files', 'astro dev', 'astro build', 'islands architecture', 'content collections', 'SSG', 'SSR adapter', 'upgrade to Astro 7', 'migrate Astro', 'Astro v7', 'Astro v6', 'Sätteri', 'route caching', 'Astro.cache', 'astro dev --background', 'src/fetch.ts', 'advanced routing', 'Hono + Astro', 'Rolldown', 'Vite 8', 'queued rendering', 'CDN cache provider', 'Astro AI', 'related content', 'related posts', 'vector embeddings Astro', 'astro-related-content', or asks about static site generation with Astro.

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Advanced Hive Mind collective intelligence system for queen-led multi-agent coordination with consensus mechanisms and persistent memory

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Advanced swarm orchestration patterns for research, development, testing, and complex distributed workflows

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Advanced and operational chat.agent capabilities for Trigger.dev, loaded on demand. Load this when working on the raw Sessions primitive (sessions / SessionHandle), a custom chat transport or the realtime wire protocol, durable sub-agents (AgentChat, chat.stream.writer), human-in-the-loop, steering, actions, background injection (chat.defer / chat.inject), fast starts (preload, Head Start via @trigger.dev/sdk/chat-server), context resilience (compaction, recovery boot, OOM, large payloads), chat.local run-scoped state, offline testing with mockChatAgent, or prerelease/version upgrades. For the everyday chat.agent({...}) definition and the useTriggerChatTransport happy path, use the trigger-authoring-chat-agent skill instead.

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Advanced React Flow patterns for complex use cases. Use when implementing sub-flows, custom connection lines, programmatic layouts, drag-and-drop, undo/redo, or complex state synchronization.

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Advanced TanStack Query (v5) expert. Covers useSuspenseQuery, infinite scrolling, optimistic mutations, SSR/React Server Components hydration, and advanced cache invalidation / Pakar manajemen state asinkron menggunakan TanStack Query (React Query) v5 dan Next.js App Router (SSR).

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Power Platform のテナント / 環境ガバナンスを確認・設定する管理スキル。開発着手前の環境チェック（既定環境ではないか・マネージド環境・Dataverse / Code Apps / MCP の有効化・セキュリティ ロール・管理 API アクセス）と DLP 事前チェックを非対話スクリプトで実行し、必要ならマネージド環境設定・カスタムコネクタの DLP 分類・ACP（Advanced connector policies）の許可コネクタを dry-run 付きで変更する。Microsoft 第一者サービスだけを許可する ACP 推奨プロファイルの適用と、クラシック DLP から ACP への移行も支援する。クラシック DLP と ACP は既定の混成モードで併用され、より制限の厳しい方が適用されるため両方を確認する。オプションとして、既定環境 / 個人開発者環境 / 市民開発者環境 / AI CoE セントラル / AI CoE 内製開発の 5 グループからなるテナント全体の環境戦略を、読み取り専用スキャン → 移行プラン（admin-migration-plan.md）→ レビュー → 適用の順で策定・実行する。設定は環境グループのルールで行うのを原則とし、グループ ルールに無い項目（既定環境ルーティング・Dataverse for Teams 禁止・Dataverse 検索・グループへの割り当て・Copilot クレジット配分）だけをテナント設定・環境個別設定・Dataverse の組織設定で補う。IP 制限・テナント分離・監査ログ・ライセンス配分などの管理設定は references にまとめる。

Advanced AgentDB: QUIC sync, multi-database, hybrid search, MMR, context synthesis.

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Advanced AgentDB Vector Search Implementation operates on 3 fundamental principles:

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An ASE skill built around ACF Extended, the WordPress enhancement suite for Advanced Custom Fields that adds field types, admin improvements, front-end forms, options pages, and developer tooling. It is a practical fit for agents working inside complex WordPress content models and custom field workflows.

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Convert SVG files to high-quality PNG images with precise control over dimensions, background color, and CSS rendering (including mix-blend-mode, filters, gradients). Use this skill when the user wants to: (1) convert SVG to PNG, (2) generate app icons or splash screens from SVG source, (3) batch-generate multiple PNG sizes from a single SVG, (4) render SVG with advanced CSS features like mix-blend-mode or filters to PNG. Triggers: "SVG to PNG", "SVG変換", "PNG変換", "アイコン生成", "スプラッシュ生成", "app icon from SVG", "favicon generation", "splash screen generation".

Evolve an existing agent definition by refining its persona in-place or creating an advanced variant. Covers assessing the current agent against best practices, gathering evolution requirements, choosing scope (refinement vs. variant), applying changes to skills, tools, capabilities, and limitations, updating version metadata, and synchronizing the registry and cross-references. Use when an agent's skills list is outdated, user feedback reveals capability gaps, tool requirements have changed, an advanced variant is needed alongside the original, or the agent's scope needs sharpening after real-world use.

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Evolve an existing skill by refining its content in-place or creating an advanced variant. Covers assessing the current skill, gathering evolution requirements, choosing scope (refinement vs. variant), applying changes, updating version metadata, and synchronizing the registry and cross-references. Use when a skill's procedure steps are outdated, user feedback reveals gaps, a skill needs a complexity upgrade, an advanced variant is needed alongside the original, or related skills are added and cross-references are stale.

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Advanced prototype pollution playbook — server-side RCE, client-side gadgets, filter bypasses, and detection techniques. Companion to ../prototype-pollution/ for basics. Use when you've confirmed pollution and need to escalate to code execution or find framework-specific gadgets.

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