「论文」の検索結果

初始化中文毕业论文工作区：检查学校模板与已有材料的放置位置，明确提示当前还缺什么，建立 `codex_md/` / `claude_md/` / `tmp_layout*/` 等中间层目录，并生成材料盘点与初始工作文件。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

规划中文毕业论文的图表、流程图和版面节奏：先决定哪些图表支撑主线，再做草图、拼版预演与图文映射。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

维护中文毕业论文的 `codex_md/question_list.md`：把本轮问题、边界、优先级、协作方案和验收口径结构化，作为整条 thesis pipeline 的控制面。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

为中文毕业论文补强并核验引用：找出必须有引文支撑的句子，扩展候选文献，检查引用与论断是否匹配，并回写参考文献与正文引用。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

把已经在 Markdown 中间层收敛的中文毕业论文内容回写到 `chapters/*.tex` 与相关交付层文件，保持结构、图表、公式、交叉引用与章节承接一致。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

强制审计论文生成质量，防止模型偷换、逻辑断链、内容空洞。Invoke when 用户提出检查/审计/验收/确保/verify/QA，或合并前需要把关。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

对数学建模竞赛论文进行两层AI痕迹审计——第一层9维检测(语言层面60%：连接词/排比/拔高词/被动句/段落规律/文本复杂度；事实层面40%：引文验证/数值一致性/术语一致性)，第二层模型合理性深度审查。严格判分+一票否决+问题标红。输出分层HTML报告。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Use when users ask to 找文献、做文献检索、查论文、查临床试验、核验引用、去重文献、设计 PubMed/MeSH 检索式、追踪上下游引文、解析 DOI/PMID/PMCID/arXiv/OpenAlex/Semantic Scholar/NCT ID， 或导出 RIS、BibTeX、NBIB、ENW；also use for multi-source academic search, citation verification, citation graphs, trial registration search, research workflows, or DeepSeek Harness academic-search MCP setup.

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Generate high-quality academic Beamer slides from a thesis/paper (PDF, Word, or LaTeX source). Compatible with Claude Code and Codex. Supports thesis defense, proposal presentations, and conference talks. Built-in layout library with 13 professional page types, 5 color schemes, and interactive editing loop. Use when: (1) User asks to create thesis defense slides/PPT, (2) User wants to generate academic presentation from a paper, (3) User mentions beamer, 答辩PPT, 学术报告, 开题PPT, 论文幻灯片, or academic slides, (4) User has a PDF/docx/tex thesis and wants presentation output.

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

将位图图形重建为高保真可编辑 SVG 与原生 PowerPoint，支持仅文字可编辑、文字/结构/公式可编辑、源图素材保真混合、选择性或完整前景拆分，以及复杂连续背景的 AI 清版底重建。当用户希望把截图、论文插图、流程图、架构图、信息图、UI、图表/地图、海报或封面转成可编辑图形，或提到“图片转可编辑 SVG/PPT”“仅文字可编辑”“图表重建”“FigEdit”时使用。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

编辑或审阅已有中文文本中的空话、重复和模板化表达，保留原意、事实、确定程度和作者声音。 主文件包含通用表达模式、中文句式、体裁判断、作者样本使用和文件保护，适用于去 AI 腔与自然化润色。 商务营销、论文与审稿回复、基金申请分别按需加载专用 reference。用于写作质量编辑，不判定作者身份。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

将学术论文转换为交互式 HTML 课程 + Markdown 文档 + PPTX 演示文稿，一键生成全部三种输出

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Humanizer 中文学术版——当用户要求润色论文、去除AI味、降低AIGC检测率，或说"帮我改改这段""这段读起来像AI写的"时触发。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

查询 AI HOT 的中文 AI 资讯、精选、当前热点和日报。当用户问今天或最近的 AI 新闻、AI 圈动态、大模型或产品发布、OpenAI/Anthropic/Google 最近发布、AI 论文、AI 日报、AI HOT 精选、当前最热事件时使用。必须通过 aihot.virxact.com 的公开只读 API 获取当前数据，不凭训练记忆回答新闻。不需要 API Key 或 MCP server。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

半导体芯片制造工艺 (Semiconductor Process Engineering / 半导体芯片制造工艺 — 以「物理化学极限 + 良率经济双重约束」为特征的集成电路前道/后道制造工艺认知操作系统：从「器件架构与微缩路线（planar→FinFET→GAA nanosheet→CFET、等效微缩 DTCO/STCO、背面供电 BSPDN）→ 工艺整合（FEOL/MOL/BEOL 模块协同、PDK、流片 tape-out）→ 单元工艺（光刻 litho（DUV 浸没式 193i / EUV 13.5nm / 多重曝光 SADP-SAQP / OPC / mask）、刻蚀 etch（RIE/ICP/原子层刻蚀 ALE）、薄膜沉积 depo（CVD/PECVD/LPCVD/ALD/PVD/外延 epi/电镀 Cu）、掺杂 doping（离子注入 ion implant / 退火 RTA-laser anneal）、CMP 化学机械抛光、清洗 cleaning）→ 量测检测 metrology（CD-SEM / OCD / overlay / 椭偏 ellipsometry / 缺陷检测 defect inspection / e-beam）→ 良率工程 yield（缺陷密度 / SPC 统计过程控制 / FDC / APC / DOE 实验设计 / 良率爬坡 yield ramp）→ 先进封装 advanced packaging（2.5D/3D、CoWoS、HBM、混合键合 hybrid bonding、chiplet、TSV）」的完整器件-工艺-良率-量产决策链。覆盖 (a) 第一性张力 — **物理/化学/材料的硬约束（量子隧穿、短沟道效应、RC 延迟、热预算、缺陷物理、ppb 级污染控制）⇄ 良率/成本/产能的经济约束（每片晶圆成本、良率是主经济指标、D0 缺陷密度、wafer-per-hour、折旧）**；**持续微缩/摩尔定律（dimensional + equivalent scaling、节点路线图 N5/N3/N2/A16/A14、high-NA EUV）⇄ 物理极限/微缩放缓（原子尺度、漏电、功耗墙、成本墙、'摩尔定律已死'之争）**；**协同优化/整合（DTCO 设计-工艺协同、STCO 系统-工艺协同、模块间 trade-off）⇄ 单模块极致优化（单一 unit process 工艺窗口）**；**工艺配方的 tacit 手艺（process recipe 调试、工艺窗口、缺陷根因分析、量产 ramp 的经验）⇄ 可建模/可仿真/数据驱动（TCAD 仿真、ML 良率分析、APC/FDC、数字孪生）**；**性能-功耗-面积-成本 PPAC 四角权衡 ⇄ 良率/可制造性 DFM 优先**；**自主可控/国产替代（卡脖子、EUV 出口管制、设备/材料/EDA 国产化、SMIC/长江存储/长鑫/中微/北方华创/上海微电子）⇄ 全球高度分工（ASML 光刻垄断、AMAT/Lam/TEL/KLA 设备、TSMC/Samsung/Intel 代工、全球供应链）**。(b) 核心工作流 / pipeline（最标准、最易蒸高质量 + CLI 化）— 新节点/新工艺导入：器件目标与 PPAC 定义 → 工艺整合方案与 PDK → 单元工艺开发与配方调试（DOE 找工艺窗口）→ 量测建立与 SPC → 良率爬坡（缺陷分类 + 根因分析 + 工艺改善）→ 量产移交与持续改善。具体单元工艺 SOP：光刻（曝光条件 / OPC / overlay 控制 / 多重曝光分解）、刻蚀（选择比 / profile / loading effect / ALE）、沉积（台阶覆盖 / 应力 / 均匀性）、CMP（去除速率 / 碟形 dishing / 侵蚀 erosion）、量测与缺陷分析、良率分析与 FA 失效分析。(c) 工具栈 — 设备（光刻 ASML/上海微电子 SMEE；刻蚀+沉积 AMAT/Lam/TEL/中微 AMEC/北方华创 Naura；离子注入 AMAT/Axcelis；CMP AMAT/荏原 Ebara；量测检测 KLA/AMAT/中科飞测/上海精测）、EDA/TCAD/仿真（Synopsys Sentaurus/Silvaco/Coventor SEMulator3D、OPC Calibre/Synopsys）、良率与制造软件（SPC、MES、FDC/APC、缺陷分析 yield management、PWS）、材料（光刻胶 photoresist、CMP 浆料 slurry、特气、靶材、掩膜 mask blank）。(d) 知识正典 — 半导体工艺 canon 横跨器件物理与制造工程：核心教材（Plummer/Deal/Griffin《Silicon VLSI Technology》、Sze《Physics of Semiconductor Devices》《VLSI Technology》、Wolf & Tauber《Silicon Processing for the VLSI Era》、Campbell《Fabrication Engineering at the Micro and Nanoscale》、May & Spanos《Fundamentals of Semiconductor Manufacturing and Process Control》、Quirk & Serda《Semiconductor Manufacturing Technology》、肖国勇/施敏中文教材）、路线图（ITRS/IRDS、IEEE 国际器件与系统路线图）、顶会论文（IEDM、Symposium on VLSI Technology、IRPS 可靠性、SPIE Advanced Lithography、ISSCC、DAC）、行业分析（SemiAnalysis、TechInsights、IC Knowledge）。(e) figures/流派 — 学术与器件奠基（Gordon Moore 摩尔、Robert Dennard 登纳德微缩、胡正明 Chenming Hu FinFET/UTB-SOI 发明人 UC Berkeley、刘明 Tsu-Jae King Liu Berkeley、Krishna Saraswat Stanford、Mark Bohr Intel 工艺架构）、产业领袖与工艺大师（张忠谋 Morris Chang TSMC、林本坚 Burn-Jeng Lin 浸没式光刻、Martin van den Brink ASML、米玉杰/梁孟松 SMIC/三星工艺、Mark Liu/魏哲家 TSMC）、行业分析师（Dylan Patel SemiAnalysis、Scotten Jones IC Knowledge、TechInsights 拆解、Handel Jones）、科普与拆解（Asianometry、The Chip Letter、半导体行业观察）。流派分歧：等效微缩派 vs 摩尔定律已死派、前道微缩 vs 先进封装 chiplet 异构集成、dimensional scaling vs DTCO 协同优化、IDM vs 纯代工 foundry 模式、自主可控/国产替代路线 vs 全球分工。(f) 行业话术/黑话 — 制程节点 node / 流片 tape-out / 工艺窗口 process window / 良率 yield / 缺陷密度 D0 / 关键尺寸 CD / 套刻 overlay / 掩膜 reticle-mask / 光刻胶 PR / 浸没式 immersion / EUV/DUV / 多重曝光 multi-patterning SADP-SAQP / OPC / 刻蚀选择比 selectivity / profile / loading effect / 原子层刻蚀 ALE / 台阶覆盖 step coverage / 外延 epi / 离子注入 implant / 退火 anneal / RTA / CMP / dishing-erosion / FEOL-MOL-BEOL / FinFET / GAA / 纳米片 nanosheet / CFET / 背面供电 BSPDN / high-NA / PPAC / DTCO-STCO / DFM / SPC / FDC-APC / DOE / WAT-PCM / 良率爬坡 yield ramp / FA 失效分析 / particle 颗粒 / 洁净室 cleanroom-级别 / 12寸-8寸 wafer / chiplet / CoWoS / HBM / 混合键合 hybrid bonding / TSV / PDK / 等效微缩. (g) 争议/批判 — 「摩尔定律是否已死 vs 等效微缩继续」、「节点命名营销化（N3/N2 ≠ 物理 3nm/2nm，gate pitch/metal pitch 才是真尺度）」、「前道微缩 vs 先进封装异构集成谁是未来」、「自主可控/国产替代的现实（EUV 卡脖子、设备/材料/EDA 国产化进度、出口管制 entity list、良率与成熟度差距）」、「良率/成本/性能三角权衡」、「人才稀缺与工艺 know-how 的 tacit 性」、「中国大基金/产能扩张是否过剩」、「制裁与技术封锁」。(h) 大量隐性工艺手艺（process recipe 调试与工艺窗口寻找、缺陷根因分析与 FA、量产良率爬坡的经验判

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Guide a researcher step by step into an unfamiliar research field, or decode a paper, abstract, figure caption, or referee comment they cannot parse. Builds understanding in rungs (motivation, vocabulary, core framework, methods, frontier), anchored to what the user already knows, with a checkpoint before each advance. Use when the user says they are new to a field, asks what a research area or method is, says an explanation was too technical, asks to be walked through something step by step, asks for a reading path, or supplies dense research text. Trigger even when the user only names an unfamiliar field or pastes an abstract without asking to be taught. Do not trigger for a one-line summary, a short overview request, or a direct factual answer; do not use it for translation, editing, search, debugging, or specialist questions inside the user's own field. Also trigger in other languages, including Chinese such as 入门, 一步一步讲, 看不懂, 这篇论文讲什么, 帮我理解这个领域.

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Extracts paper recommendations from social-media posts and online articles (小红书 / Xiaohongshu / RedNote, 微信公众号 / WeChat Official Accounts, Twitter / X threads, Reddit posts, Bilibili videos, blog posts, newsletters, Jina Reader URLs), identifies the underlying academic papers, locates the authoritative original sources (arXiv, conference proceedings, DOI), and triages relevance to the user's research before any library action. Use when the user forwards a social-media link, screenshot, or article that mentions a paper / method / model, asks to "find the original paper" from a blog or thread, shares a 调研贴 / 论文推荐 / paper recommendation post, or wants to evaluate whether a buzz-worthy paper is worth reading before adding it to Zotero.

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

将书籍、PDF、论文、报告或文字材料制作成视觉优先的图片版 PPT，适用于竞赛、答辩、路演、课程展示和读书分享；在用户明确要求时按 Scene v1 还原可编辑 PPTX。流程包含需求和大纲确认、四套风格选型及逐页生图；不用于直接修改已有可编辑 PPTX。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Humanizer 中文学术版——当用户要求润色论文、去除AI味、降低AIGC检测率，或说"帮我改改这段""这段读起来像AI写的"时触发。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Personal research-paper radar. Fetches the latest papers and code repos for the user's keyword subscriptions across arXiv, Crossref (IEEE/ACM), Semantic Scholar, GitHub, HuggingFace, Papers with Code and RSS; deduplicates against history; then YOU (the assistant) expand the queries, filter for computer-science relevance, write Chinese summaries, detect hot sub-fields, and emit a Markdown + HTML digest (optionally emailed). Use when the user asks to "run my paper radar / 文献雷达", "check for new papers", "what's new in my topics", "今天有什么新论文 / 最新文献", "today's research digest", or to configure their keyword subscriptions / sources / schedule.

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Use when 高教社杯/CUMCM 数学建模论文需要格式化、修复、压缩或审查符号表、记号表、结果表，包括单位清理、longtable、列宽平衡或按截图修排版。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Use when 高教社杯/CUMCM 数学建模论文需要规划、选择、审查或修复图、图表、表格转图、图注、图像证据行、正文放置、附录降级或图后结论。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Use when 高教社杯/CUMCM 数学建模论文、摘要、正文、表图、附录、登记表、结论、数值、单位、场景标签、可行性措辞或提交包需要跨材料一致性审查。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。

Use when 高教社杯/CUMCM 数学建模论文需要检查官方规则、匿名性、AI 使用披露、页数、附录/支撑材料、代码复现、提交清单或最终提交就绪状态。

日本語の概要は準備中です。原文の説明を表示しています。