「dac」の検索結果

Fix S3 "InvalidArgument" errors when using Google Cloud Storage S3-compatible API with ObjectCannedAcl::PublicRead or x-amz-acl headers. Use when: (1) put_object or upload_blob fails with InvalidArgument on GCS, (2) Using aws-sdk-s3 Rust crate with GCS endpoint (storage.googleapis.com), (3) Bucket has uniform bucket-level access enabled (GCS default since 2023), (4) S3 operations work on MinIO/AWS but fail on GCS. GCS rejects per-object ACLs when uniform bucket-level access is enabled.

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Use ElevenLabs Scribe for speech-to-text production workflows: transcribing audio or video files, diarization and speaker/channel handling, word/character timestamps, captions/subtitles, keyterm prompting, entity detection/redaction, webhooks, realtime STT boundaries, pricing/limits, privacy/retention, consent, artifact custody, and QA for podcasts, interviews, edits, accessibility captions, and localization prep.

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Use this skill when an agent needs AssemblyAI for speech-to-text or speech-understanding work in media production, including pre-recorded, synchronous short-file, and real-time streaming transcription; speaker diarization or speaker identification; captions and subtitles; timestamps; language detection, code-switching, or transcript translation; audio intelligence such as summaries, chapters, topics, entities, key phrases, sentiment, content moderation, profanity filtering, and PII redaction; webhooks, scaling, rate limits, retention, security, consent, and QA for podcasts, interviews, captions, call recordings, and edit workflows.

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半导体芯片制造工艺 (Semiconductor Process Engineering / 半导体芯片制造工艺 — 以「物理化学极限 + 良率经济双重约束」为特征的集成电路前道/后道制造工艺认知操作系统：从「器件架构与微缩路线（planar→FinFET→GAA nanosheet→CFET、等效微缩 DTCO/STCO、背面供电 BSPDN）→ 工艺整合（FEOL/MOL/BEOL 模块协同、PDK、流片 tape-out）→ 单元工艺（光刻 litho（DUV 浸没式 193i / EUV 13.5nm / 多重曝光 SADP-SAQP / OPC / mask）、刻蚀 etch（RIE/ICP/原子层刻蚀 ALE）、薄膜沉积 depo（CVD/PECVD/LPCVD/ALD/PVD/外延 epi/电镀 Cu）、掺杂 doping（离子注入 ion implant / 退火 RTA-laser anneal）、CMP 化学机械抛光、清洗 cleaning）→ 量测检测 metrology（CD-SEM / OCD / overlay / 椭偏 ellipsometry / 缺陷检测 defect inspection / e-beam）→ 良率工程 yield（缺陷密度 / SPC 统计过程控制 / FDC / APC / DOE 实验设计 / 良率爬坡 yield ramp）→ 先进封装 advanced packaging（2.5D/3D、CoWoS、HBM、混合键合 hybrid bonding、chiplet、TSV）」的完整器件-工艺-良率-量产决策链。覆盖 (a) 第一性张力 — **物理/化学/材料的硬约束（量子隧穿、短沟道效应、RC 延迟、热预算、缺陷物理、ppb 级污染控制）⇄ 良率/成本/产能的经济约束（每片晶圆成本、良率是主经济指标、D0 缺陷密度、wafer-per-hour、折旧）**；**持续微缩/摩尔定律（dimensional + equivalent scaling、节点路线图 N5/N3/N2/A16/A14、high-NA EUV）⇄ 物理极限/微缩放缓（原子尺度、漏电、功耗墙、成本墙、'摩尔定律已死'之争）**；**协同优化/整合（DTCO 设计-工艺协同、STCO 系统-工艺协同、模块间 trade-off）⇄ 单模块极致优化（单一 unit process 工艺窗口）**；**工艺配方的 tacit 手艺（process recipe 调试、工艺窗口、缺陷根因分析、量产 ramp 的经验）⇄ 可建模/可仿真/数据驱动（TCAD 仿真、ML 良率分析、APC/FDC、数字孪生）**；**性能-功耗-面积-成本 PPAC 四角权衡 ⇄ 良率/可制造性 DFM 优先**；**自主可控/国产替代（卡脖子、EUV 出口管制、设备/材料/EDA 国产化、SMIC/长江存储/长鑫/中微/北方华创/上海微电子）⇄ 全球高度分工（ASML 光刻垄断、AMAT/Lam/TEL/KLA 设备、TSMC/Samsung/Intel 代工、全球供应链）**。(b) 核心工作流 / pipeline（最标准、最易蒸高质量 + CLI 化）— 新节点/新工艺导入：器件目标与 PPAC 定义 → 工艺整合方案与 PDK → 单元工艺开发与配方调试（DOE 找工艺窗口）→ 量测建立与 SPC → 良率爬坡（缺陷分类 + 根因分析 + 工艺改善）→ 量产移交与持续改善。具体单元工艺 SOP：光刻（曝光条件 / OPC / overlay 控制 / 多重曝光分解）、刻蚀（选择比 / profile / loading effect / ALE）、沉积（台阶覆盖 / 应力 / 均匀性）、CMP（去除速率 / 碟形 dishing / 侵蚀 erosion）、量测与缺陷分析、良率分析与 FA 失效分析。(c) 工具栈 — 设备（光刻 ASML/上海微电子 SMEE；刻蚀+沉积 AMAT/Lam/TEL/中微 AMEC/北方华创 Naura；离子注入 AMAT/Axcelis；CMP AMAT/荏原 Ebara；量测检测 KLA/AMAT/中科飞测/上海精测）、EDA/TCAD/仿真（Synopsys Sentaurus/Silvaco/Coventor SEMulator3D、OPC Calibre/Synopsys）、良率与制造软件（SPC、MES、FDC/APC、缺陷分析 yield management、PWS）、材料（光刻胶 photoresist、CMP 浆料 slurry、特气、靶材、掩膜 mask blank）。(d) 知识正典 — 半导体工艺 canon 横跨器件物理与制造工程：核心教材（Plummer/Deal/Griffin《Silicon VLSI Technology》、Sze《Physics of Semiconductor Devices》《VLSI Technology》、Wolf & Tauber《Silicon Processing for the VLSI Era》、Campbell《Fabrication Engineering at the Micro and Nanoscale》、May & Spanos《Fundamentals of Semiconductor Manufacturing and Process Control》、Quirk & Serda《Semiconductor Manufacturing Technology》、肖国勇/施敏中文教材）、路线图（ITRS/IRDS、IEEE 国际器件与系统路线图）、顶会论文（IEDM、Symposium on VLSI Technology、IRPS 可靠性、SPIE Advanced Lithography、ISSCC、DAC）、行业分析（SemiAnalysis、TechInsights、IC Knowledge）。(e) figures/流派 — 学术与器件奠基（Gordon Moore 摩尔、Robert Dennard 登纳德微缩、胡正明 Chenming Hu FinFET/UTB-SOI 发明人 UC Berkeley、刘明 Tsu-Jae King Liu Berkeley、Krishna Saraswat Stanford、Mark Bohr Intel 工艺架构）、产业领袖与工艺大师（张忠谋 Morris Chang TSMC、林本坚 Burn-Jeng Lin 浸没式光刻、Martin van den Brink ASML、米玉杰/梁孟松 SMIC/三星工艺、Mark Liu/魏哲家 TSMC）、行业分析师（Dylan Patel SemiAnalysis、Scotten Jones IC Knowledge、TechInsights 拆解、Handel Jones）、科普与拆解（Asianometry、The Chip Letter、半导体行业观察）。流派分歧：等效微缩派 vs 摩尔定律已死派、前道微缩 vs 先进封装 chiplet 异构集成、dimensional scaling vs DTCO 协同优化、IDM vs 纯代工 foundry 模式、自主可控/国产替代路线 vs 全球分工。(f) 行业话术/黑话 — 制程节点 node / 流片 tape-out / 工艺窗口 process window / 良率 yield / 缺陷密度 D0 / 关键尺寸 CD / 套刻 overlay / 掩膜 reticle-mask / 光刻胶 PR / 浸没式 immersion / EUV/DUV / 多重曝光 multi-patterning SADP-SAQP / OPC / 刻蚀选择比 selectivity / profile / loading effect / 原子层刻蚀 ALE / 台阶覆盖 step coverage / 外延 epi / 离子注入 implant / 退火 anneal / RTA / CMP / dishing-erosion / FEOL-MOL-BEOL / FinFET / GAA / 纳米片 nanosheet / CFET / 背面供电 BSPDN / high-NA / PPAC / DTCO-STCO / DFM / SPC / FDC-APC / DOE / WAT-PCM / 良率爬坡 yield ramp / FA 失效分析 / particle 颗粒 / 洁净室 cleanroom-级别 / 12寸-8寸 wafer / chiplet / CoWoS / HBM / 混合键合 hybrid bonding / TSV / PDK / 等效微缩. (g) 争议/批判 — 「摩尔定律是否已死 vs 等效微缩继续」、「节点命名营销化（N3/N2 ≠ 物理 3nm/2nm，gate pitch/metal pitch 才是真尺度）」、「前道微缩 vs 先进封装异构集成谁是未来」、「自主可控/国产替代的现实（EUV 卡脖子、设备/材料/EDA 国产化进度、出口管制 entity list、良率与成熟度差距）」、「良率/成本/性能三角权衡」、「人才稀缺与工艺 know-how 的 tacit 性」、「中国大基金/产能扩张是否过剩」、「制裁与技术封锁」。(h) 大量隐性工艺手艺（process recipe 调试与工艺窗口寻找、缺陷根因分析与 FA、量产良率爬坡的经验判

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Renders a Bluesky post as an anonymised screenshot so its words can be criticised without a link back to whoever wrote them. Blacks out avatar, display name, handle and any at-mentions in declassified-document styling, then emits a PNG and its alt text. Use for anonymous dunk-quoting, "dunk on this without linking it", "screenshot this post with the author hidden", "quote this without naming them", "redact this before I share it", or when a bad take from a small account deserves an answer and its author does not deserve your followers.

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Cultural adaptation for translated content. Run AFTER blog-translate completes. Adjusts brand examples, CTAs, legal references, and formality for the target market (German, French, Japanese, Spanish, etc.). Deep cultural adaptation of translated blog posts. Goes beyond translation to swap brand examples, adapt CTAs, substitute legal references, localize statistic sources where possible, and adjust formality (Sie/du, tu/vous, formal/informal). Built-in profiles for DACH, Francophone, Hispanic, and Japanese markets, plus a custom-locale template. Makes content feel locally authored, not translated. Use when user says "localize blog", "blog localize", "cultural adaptation", "adapt for Germany", "adapt for France", "lokalisieren", "localiser", "adaptar".

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Applies the reasoning, frameworks, and mental models of Fei-Fei Li, computer vision pioneer, ImageNet creator, and co-director of Stanford HAI. Use this skill whenever Claude encounters topics related to AI ethics, human-centered AI, spatial intelligence, embodied AI, robotics, AI governance, diversity in tech, or the societal impacts of AI. Trigger this skill when users face decisions about AI product design (augment vs. replace), dataset formulation, navigating AI regulation, or choosing audacious research directions. Channel her pragmatic optimism and focus on spatial, physical grounding over pure language models.

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ESPHome device configuration, firmware, and IoT product development. Covers ESP32, ESP32-S3, ESP32-C3, ESP32-C6, ESP32-H2, ESP32-P4, ESP8266, RP2040, RP2350, nRF52, LibreTiny, Shelly, Sonoff, Tuya, BLE proxy, Matter firmware, Thread, Zigbee, GPIO, sensor YAML, LVGL displays, LED strips, voice assistant hardware, device flashing, Arduino conversion, alarm_control_panel, lock, valve, media_player, microphone, speaker, audio DAC, event entities, datetime entities, Z-Wave proxy, MIPI DSI displays, and DLMS smart meters. Also covers designing new ESPHome-based products: hardware selection, component sourcing, PCB design (KiCad), enclosures, 3D printing, CE/FCC certification, BOM optimization, and manufacturing from prototype to production scale.

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Analyze WeChat Mini Program platform constraints and evidence layers for an idea or existing repository, including source configuration, build output, WeChat DevTools loading, device behavior, permissions, privacy declarations, cloud or backend linkage, upload, trial, review, and production status. Use when users ask about WeChat-specific configuration, project roots, compile paths, capability permissions, privacy compliance, official platform rules, upload or release readiness, or why source and platform behavior differ. Performs read-only evidence classification by default, verifies time-sensitive or high-risk claims against current official WeChat sources, redacts identifiers and secrets, and never upgrades one evidence layer into another.

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Orchestrate evidence-first engineering for WeChat and other mini programs from a vague idea or existing repository through project discovery, product specification, architecture, implementation, debugging, device adaptation, verification, and release readiness. Use when users ask to build a mini program from zero to one, take over an existing mini-program project, deliver a cross-stage feature, diagnose project status, coordinate development and testing, or judge whether a mini program is ready to upload or release. Enforces fact discovery, change boundaries, stage gates, evidence-calibrated status, sensitive-information redaction, and continuity after side questions.

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Apply evidence-first engineering discipline to any agent-built software project: fact discovery before action, evidence-calibrated status reporting, explicit change boundaries and stage gates, controlled confirmation for risky or external actions, sensitive-information redaction for anything shared publicly, and resumable continuity after interruptions. Use when users ask an agent to take over an existing codebase, deliver a feature across stages, verify whether work is actually complete, judge release readiness, or keep conclusions honest about what is proven versus assumed. This foundation skill is domain-neutral; vertical suites (for example mini-program engineering) build on it by adding domain facts and platform rules.

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Belegte, objektive Wettbewerbsvergleiche und Alternativseiten für den deutschen und DACH-Markt erstellen. Nutze diesen Skill für Seiten der Form „X-Alternative“, „X-Alternativen“, „Produkt vs. X“ oder „A vs. B“, für interne Competitive-Unterlagen und Battlecards, und wenn ein vorhandener Vergleich auf Symmetrie und Belege geprüft werden soll. Führt ein Aussagen- und Quellenverzeichnis, hält Preisangaben mit Stichtag fest, prüft § 6 UWG und Markenrecht konservativ und benennt bestätigte Trade-offs statt einseitiger Vorteile. Für das Profil eines einzelnen Anbieters ohne Vergleichsseite: competitor-profiling.

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B2B-Outreach-E-Mails im deutschen und DACH-Kontext konservativ entwerfen und prüfen. Nutze diesen Skill für Kaltakquise-Mails, Nachfassnachrichten, Betreffzeilen und Outreach-Sequenzen an Geschäftskontakte, und für die vorgelagerte Frage, ob eine geplante Ansprache überhaupt zulässig ist. Prüft § 7 UWG, die kumulativen Voraussetzungen der Bestandskundenausnahme nach § 7 Abs. 3 UWG, Herkunft der Kontaktdaten und Sperrlisten; Österreich und Schweiz werden getrennt behandelt. Liefert ausschließlich Entwürfe mit sichtbarem Versandblocker: kein Versand, keine Terminierung, kein Kontaktimport. Keine Rechtsberatung.

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Technische, inhaltliche und internationale SEO-Probleme für Deutschland und den DACH-Raum prüfen und priorisieren. Nutze diesen Skill bei Ranking- oder Trafficeinbrüchen, bei Problemen mit Crawling, Indexierung, Rendering, Canonicals, Weiterleitungen, Ladezeit, interner Verlinkung, hreflang oder lokaler Sichtbarkeit, vor und nach Migrationen und Relaunches, und wenn Befunde aus der Search Console eingeordnet werden sollen. Liefert reproduzierbare Evidenz statt Vermutungen, trennt Beobachtung von Hypothese und bleibt lesend: produktive Änderungen brauchen eine gesonderte Freigabe.

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Organische Social-Media-Inhalte für Deutschland und den DACH-Raum planen, verfassen, wiederverwenden, prüfen und messen. Nutze diesen Skill, wenn Posts, Redaktionspläne, Content-Serien oder Kanalstrategien für LinkedIn, X, Instagram, TikTok, Facebook, YouTube oder Mastodon entstehen sollen, wenn vorhandene Inhalte für Social wiederverwendet werden, oder wenn ein Beitrag auf Werbekennzeichnung, Persönlichkeits- und Markenrechte, Alt-Texte und aktuelle Plattformregeln geprüft werden soll. Deckt Briefing, Evidenz, Formatwahl, Interaktion und Messung ab. Nicht für bezahlte Kampagnen und nicht für das tatsächliche Veröffentlichen.

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Marketingbilder rechtebewusst planen, erzeugen, bearbeiten, optimieren und prüfen. Nutze diesen Skill für Bildbriefings, Produktscreenshots und Mock-ups, generative Bilder, Stock- und Lizenzrouten, Bildbearbeitung, Formate und Komprimierung sowie deutsche Alt-Texte. Klärt Herkunft und Nutzungsrechte vor der Produktion, beachtet Persönlichkeits-, Marken- und Urheberrecht, verlangt Kennzeichnung wo nötig und schließt erfundene Produktansichten und unbelegte Bildaussagen aus. Nicht gedacht für Logos, Design-Systeme und Layoutarbeit.

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Sichtbarkeit, Zitierung und Empfehlung in KI-Antwortsystemen für Deutschland und den DACH-Raum evidenzbasiert prüfen und verbessern. Nutze diesen Skill, wenn eine Marke oder Seite in KI-Overviews, ChatGPT, Perplexity, Gemini oder Copilot auftauchen soll, wenn Crawler-Freigaben für KI-Bots, llms.txt, strukturierte Daten oder die Extrahierbarkeit von Inhalten zu bewerten sind, oder wenn jemand nach AEO, GEO oder LLMO fragt. Trennt Abruf, Zitierung, Erwähnung und Empfehlung, prüft Behauptungen über KI-Rankingfaktoren gegen Primärquellen und verspricht keine Sichtbarkeit. Für klassisches technisches SEO ist seo-audit zuständig.

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Walidacja claims - co wolno a czego nie wolno mówić w copy

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Convert Chinese provinces, municipalities, autonomous regions, cities, counties, ancient cities, and cultural regions into restrained contemporary posters led by one culturally transformed Chinese character. Supports direct one-shot final image generation and layered production. Use when the user asks for a 中国省域文化海报、城市文化海报、地域文化视觉、极简大字海报、地区系列海报、展览主视觉、出版或社交封面，requests 直接生成、一次成图、不合成、不要后期、direct generation, or wants cultural analysis, art direction, image prompts, rendered poster images, or a coherent batch series for places such as 北京、广东、福建、江南、岭南、巴蜀 or 关中.

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Process, convert, OCR, extract, redact, sign, and fill documents using the Nutrient DWS API. Works with PDFs, DOCX, XLSX, PPTX, HTML, and images.

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Asistente especializado en investigación académica, redacción científica, ACD, metodología cualitativa y análisis de datos con prevención de plagio

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Endpoint defense evasion after an operator-selected chain already has a valid execution path but AV/EDR/AMSI/WDAC/PPL/memory/kernel telemetry blocks the intended action. Originating modules include /web-attack /ad-attack /cloud-attack /k8s /cicd /service-attack /phishing /privesc-win /privesc-linux /creds /post /shell. Success is the blocked action becoming executable, then resume the originating module — not obtaining a shell here.

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Verify document completeness for each bureaucratic step of an EU/DACH relocation, flagging missing items and translation requirements. Use after creating a relocation plan and before beginning bureaucratic procedures, when preparing for a specific appointment (Buergeramt, Finanzamt), when unsure which documents need certified translation or apostille, after receiving a rejection or request for additional documents, or as a periodic check during the relocation process to ensure nothing has been overlooked.

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Use when the user asks to sanitize memory for sharing, redact PII, or scan memory for credentials. Not for auditing memory: use memory-clean.

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